半导体清洗设备
更新时间：2020-07-26 12:05:50点击次数：1330次字号：T|T
相关介绍
Wafer Case 清洗设备
产品概要
主要清洗wafer存储料盒及料箱的清洗装置
产品特征
可灵活对应6“~12"产品
基本现有的FOUP FOSB RSP卡匣、料盒都可以放入治具中
清洗干燥共用的小型化的独立腔室
在线成本降低
每人多台设备同时操作对应每人多台设备同时操作对应可
SPIN Etcher-枚叶式旋转湿法装置
SPIN Etcher-枚叶式旋转湿法装置（查看产品详情请点击）
