蚀刻装置
更新时间：2020-07-03 13:52:08点击次数：813次字号：T|T
产品概要
相关介绍
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产品概要 |
ARRAY工序：金属（Al/Mo/Cu/Cr等）的湿蚀刻氧化硅膜（SiO2）・硅氮化物膜（SiN）的湿蚀刻.
ARRAY/CF/触摸屏工序：透明电极（ITO）的湿蚀刻
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产品特征 |
可对应玻璃基板最大尺寸：G10 宽2850mm×长3050mm
可对应各种蚀刻液
考虑到安全性，漏液，漏气等问题
考虑到蚀刻均一性的工艺设计
防止2次污染的搬送构造以及风刀
可对应高处理量的系统设计
可通过抑制药液，纯水，气的使用量减少运行成本
产品外观，构成
