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FPD用自动膜厚测量装置 NanoSpec6500

更新时间:2020-07-03 14:12:15点击次数:8357次字号:T|T
FPD用自动膜厚测量装置 NanoSpec6500   产品概要                                                              &
相关介绍

FPD用自动膜厚测量装置 NanoSpec6500

产品概要

在FPD(Flat Panel Display)生产线中,用于测量玻璃基板薄膜的NanoSpec6500系列是,Nanometrics公司历经多年的研发,凝结了光学技术及经验,分析软件,高精度Stage驱动等技术,在全球的主要液晶生产工程有着超过100台的销售业绩。而我司在接受NanoSpec6500系列的业务转让后,并且以我司的技术进一步改进设备后,进行设备的制造,销售以及售后业务。


产品特征

在拥有高处理能力,高精度,高信頼性的6500系列,追加了搭载光谱椭偏仪(SE)及紫外线(UV)的机型,可对应更广范围的膜厚测量及膜质评估。目前可对应基板尺寸是到G10用基板(2900mm×3100mm)为止的各种基板膜厚测量原理(NanoSpec的膜厚测量是,应用了光的干扰色测量方式的原理。在测量物上垂直照射白光或紫外线,将在膜的上下界面反射的光的干扰光引到光谱Head后,以分析光谱的光的强度计算出膜厚值。另外,光谱椭偏仪可以以广范围波长的入射光和反射光的偏振光变化量,同时计算出多个光学乘数(曲折率n和消衰系数k)和膜厚。)Small Spot测量(为可以测量Pattern化的区域,建议以最小0.75μm的Spot进行测量。0.75μm的Spot还可以对TFT构造的n+/a-Si/SiN/Glass等多层膜进行3层膜的同时膜厚测量(包含n,k值)。)

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对应各式基板的膜厚测量・检查

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 玻璃上/金属上  SiOx,SiNx,a-Si,n-a-Si,ITO,PI,Resist
 单层膜


 玻璃上  Ta2O5,Al上Al2O3

 玻璃上/金属上  SiOx/Poly-Si/SiOx/SiNx,/Poly-Si/SiOx/SiNx
 多层膜
 a-Si/SiOx/SiNx/SiOx

 玻璃上  Resist/ITO,ITO/SiO2,PI/SiO2,SiOx/SiNx,  TaO2O5/SiNx



规格

型号 Nanospec6500系列 >6500X-SE(搭载  椭偏仪)
基板尺寸 300mm-3200mm
测量方式及分光  Head 光干扰式反射率测量,Linear array元  素
测量波长范围  (nm) 400nm-800nm (SR)400nm-  800nm
(SE)380nm-  1000nm
膜厚测量范围 10nm-20um (SR)10nm-  20um
(SE)0nm-10um
多层膜测量 可测量3层膜
膜质评估(n&k) 可测量
测量时间 0.5~sec/point(根据膜种类)
测量Spot尺寸 5X镜头:50um
10X镜头:25um
50X镜头:5um
100X镜头:0.75um
(SE是0.6mm×1.5mm

可选项 CIM,Loader   Interface,Pattern识  别, Small Spot,抗阻率测量,接触角测量等
Utility 电源   单相AC200V 50/60Hz 10A
真空 -55~-80KPa
压缩空气 0.55~0.60MPa