FPD用自动膜厚测量装置 NanoSpec6500
产品概要 |
在FPD(Flat Panel Display)生产线中,用于测量玻璃基板薄膜的NanoSpec6500系列是,Nanometrics公司历经多年的研发,凝结了光学技术及经验,分析软件,高精度Stage驱动等技术,在全球的主要液晶生产工程有着超过100台的销售业绩。而我司在接受NanoSpec6500系列的业务转让后,并且以我司的技术进一步改进设备后,进行设备的制造,销售以及售后业务。
产品特征 |
在拥有高处理能力,高精度,高信頼性的6500系列,追加了搭载光谱椭偏仪(SE)及紫外线(UV)的机型,可对应更广范围的膜厚测量及膜质评估。目前可对应基板尺寸是到G10用基板(2900mm×3100mm)为止的各种基板膜厚测量原理(NanoSpec的膜厚测量是,应用了光的干扰色测量方式的原理。在测量物上垂直照射白光或紫外线,将在膜的上下界面反射的光的干扰光引到光谱Head后,以分析光谱的光的强度计算出膜厚值。另外,光谱椭偏仪可以以广范围波长的入射光和反射光的偏振光变化量,同时计算出多个光学乘数(曲折率n和消衰系数k)和膜厚。)Small Spot测量(为可以测量Pattern化的区域,建议以最小0.75μm的Spot进行测量。0.75μm的Spot还可以对TFT构造的n+/a-Si/SiN/Glass等多层膜进行3层膜的同时膜厚测量(包含n,k值)。)
对应各式基板的膜厚测量・检查
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玻璃上/金属上 | SiOx,SiNx,a-Si,n-a-Si,ITO,PI,Resist | |||||||
单层膜 |
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玻璃上 | Ta2O5,Al上Al2O3 | |||||||
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玻璃上/金属上 | SiOx/Poly-Si/SiOx/SiNx,/Poly-Si/SiOx/SiNx | |||||||
多层膜 |
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a-Si/SiOx/SiNx/SiOx | |||||||
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玻璃上 | Resist/ITO,ITO/SiO2,PI/SiO2,SiOx/SiNx, TaO2O5/SiNx |
规格
型号 | Nanospec6500系列 | >6500X-SE(搭载 椭偏仪) | |||||||
基板尺寸 | 300mm-3200mm |
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测量方式及分光 Head | 光干扰式反射率测量,Linear array元 素 |
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测量波长范围 (nm) | 400nm-800nm |
(SR)400nm- 800nm (SE)380nm- 1000nm |
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膜厚测量范围 | 10nm-20um |
(SR)10nm- 20um (SE)0nm-10um |
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多层膜测量 | 可测量3层膜 |
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膜质评估(n&k) | 可测量 |
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测量时间 | 0.5~sec/point(根据膜种类) |
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测量Spot尺寸 |
5X镜头:50um 10X镜头:25um 50X镜头:5um 100X镜头:0.75um (SE是0.6mm×1.5mm |
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可选项 | CIM,Loader Interface,Pattern识 别, Small Spot,抗阻率测量,接触角测量等 |
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Utility |
电源 单相AC200V 50/60Hz 10A 真空 -55~-80KPa 压缩空气 0.55~0.60MPa |
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